卡博莱特盖罗提供的真空炉系列包括真空箱式炉，真空钟罩炉，底部装载炉，实验室真空炉和真空管式炉。 每个炉子可以在反应性气氛或惰性气氛下使用。 我们真空炉系列中的大多数产品具有金属，石墨或陶瓷保温料。 根据要求，石墨炉可以在高达3000°C的温度下安全运行。
真空炉系列在订货阶段有许多不同的选项，包括高级软件、数据记录器和先进的数字控制器。这些都有助于对真空炉的运行进行更高级别的控制，并提供完整的数据记录功能。此外，在某些情况下，还可提供不同的泵、真空系统和冷却系统，以满足特定要求。
我们所有的真空炉都具有坚固的结构，可在受控气氛中提供快速、高度一致的加热，是众多重型工业和实验室应用的理想之选。
真空炉的常见应用包括钎焊、烧结、退火、脱气、干燥、回火、焊接、淬火和硬化。真空炉还可用于金属注射成型 (MIM) 或陶瓷注射成型 (CIM)，以及金属化、液态硅渗透、碳化和其他工业过程。
不同的真空炉适用于不同的功能。真空罩式炉可提供尽可能高的纯度，而具有底部装载功能的真空炉型号则便于接触样品。实验室真空炉的设计比其他型号更为紧凑，非常适合研究环境。 卡博莱特盖罗 真空管炉以相应的非真空型号为基础，但经过改装，配备了专用的真空装置。因此，有多种直径和长度可供选择。对于 HTRH-H2 型真空管炉，还可以使用氢气气氛。
真空炉可以在真空中进行热处理。冷壁真空炉和热壁真空炉是有区别的。冷壁真空炉使用一个水冷的真空接受器，在整个热处理过程中保持低温。加热元件位于该接受器内。另一方面，热壁真空炉的加热元件位于真空受体（如陶瓷或石英管）之外，而受体本身被加热。
在空气/氧化环境中，普通电阻型加热元件的最高温度为1800℃。对于高于这个温度，必须使用真空炉，并且必须应用非氧化性气氛。真空炉允许电阻型加热元件的温度高达3000℃。
许多应用需要真空热处理，例如真空焊接和钎焊、真空退火、烧结等。一般来说，任何类型的热处理都需要在规定的、大部分非氧化的气氛中进行真空炉。此外，使用真空炉进行与空气成分不同的确定的氧气浓度的热处理（例如，100%纯O2）也是有意义的。
当然，真空本身也是真空炉的一种可能的气氛。根据不同的应用，真空度可以是粗真空、细真空、高真空，甚至是超高真空。此外，由于真空炉可以完全去除空气气氛，因此也可以使用各种气体或混合物，如氩气、氮气、氢气、一氧化碳、氦气等。
通常，石墨、钼或钨加热元件被用于（冷壁）真空炉中。这些元素即使在高温下也拥有低压力。在真空中，有可能分别达到2200℃、1600℃和2200℃。
